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Thermische Prozesslösungen

AST-1100 Automatisiertes Photowiderstand-Ausbackwerkzeug

AST-1100 Automatisiertes Photowiderstand-Ausbackwerkzeug

Ein erprobtes 300mm thermisches Prozesswerkzeug
Konstruiert zum Verarbeiten von 300mm-Siliziumscheiben, Despatch AST-1100 ist auch für 200mm-Scheiben geeignet. Dieses automatisierte Photowiderstands-Ausbackwerkzeug erhöht den Durchlauf, eliminiert Handhabungsfehler und spart wertvollen Stellplatz ein.
Thermische Daten - Das Despatch AST-1100 Automatisierte Photowiderstands-Ausbackwerkzeug liefert eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit. Das Werkzeug hält eine Gleichmäßigkeit von +/-1.0°C zwischen jeder Scheibe und über alle 25 Scheiben in der Kammer beim Eintauchen.
Durchsatz erhöhen, Fehler eliminieren und Ergonomie verbessern - Die Verwendung des automatisierten Scheiben-Handhabungssystems eliminiert teure Fehler, verbessert die Ergonomie und erhöht den Durchsatz. Dieser Prozess eliminiert die manuelle Handhabung von 300mm-Scheiben, welche das von OHSA festgelegte Gewichtslimit für wiederholte Handhabung durch Personen überschreitet. Die zwei Kammern des Ofens nehmen je 25 Scheiben während des Prozesszyklus auf. Despatch kann zusätzliche Wärmekammern hinzufügen um den Durchsatz zu erhöhen.
Einsparung von wertvollem Reinraumplatz - Der Despatch-300mm-Ofen misst etwa 262 cm Breite und 224 cm Länge. Seine kleine Stellfläche minimiert den erforderlichen Reinraumplatzbedarf und maximiert Ihre Produktionsumgebung. Kompatibel mit auf der Stirnwand montierten Installationen.

Standardeigenschaften
  • Automatisierungsfunktion
  • Nimmt sowohl 200mm- als auch 300mm-Scheiben auf
  • Standardautomatisierung der Halbleiterindustrie
  • Zwei vorne zu öffnende vereinigte Hülsen (FOUP) Beladungsstationen
  • Atmosphärischer Klasse 1 Reinraum - kompatibler Roboter
  • Optisch basierte Klasse 1 Laserkassette - Abbildungs-Sensor
  • Werkzeugkapazität: 50 Scheiben mit der Standard Zwei-Kammerkonfiguration
  • Zusätzliche Kammern können angefügt werden.
  • Thermische Prozesseigenschaften
  • Stickstoffatmosphäre
  • 175°C Maximaltemperatur
  • Temperaturgleichmäßigkeit ±1.0°C bei 95°C Eintauchtemperatur
  • Aktive Kühlung für schnelles Abkühlen
  • HEPA-Filterung
  • Erfüllt SEMI S2/S8 und SEMATECH Vorgaben A, B, und C
  • Graphische Benutzer-Schnittstelle (GUI)
  • Erfüllt 300mm SEMI Kommunikationsstandards
  • Aktive Kühlung für schnelles Abkühlen
  • FOUP ID-Leser
Optionen
  • 2 Ebenen Überwachung
  • Scheiben-ID-Leser
  • Nicht unterbrechbare Stromversorgung (UPS)
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Produktaufnahmen



Produktbeschreibung, Optionen und Spezifikationen

ast-1100_automated_photoresist_bake_tool.pdf
Dateigrösse: 131 kB
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